7月16日上午，东湖高新区国家大学科技园光电子创新中心一期工程结构封顶仪式在大学科技园现场举行。武汉高科集团总经理范蕴玉、武汉建工集团总经理吴建军分别致贺辞。
光电子创新中心是武汉高科集团投资建设的重点工程项目。该项目占地面积44.77亩，分两期建设，项目总投资15200万元。一期总建面37500㎡，二期总建面37000㎡。一期工程于08年12月开工建设，目前，一期工程1、2号楼已结构封顶。二期工程拟于年内开工建设，年底完成结构施工。创新中心项目的建设，为服务外包企业、光电子企业研发、办公和生产提供了一个高品质的办公和生产经营平台。
